pvd glass coloring film vacuum evaporation deposition coating machine

Product Overview

Description

 

PVD Glass Vcuum Deposition Coating Machine

Working Principle:

This equipment combined magnetron sputtering and vacuum evaporation techniques within the same coating equipment, the only use of magnetron sputtering cathode glow discharge to the target atoms spill and partially ionized film deposited on the substrate

 while can be used by resistance heating in a vacuum feed molten metal plating and allowed to vaporize and then deposited on the substrate film. Increased use of facilities and flexibility.

 

Features: 

The device configuration of the plasma processing equipment, high efficiency cathode magnetron sputtering cathode and resistance evaporation devices, designed to switch a large load of aircraft parts, using automatic control technology. fast deposition rate, high adhesion, delicate compact,high surface finish ,uniform consistency,machine coating process to achieve full automation,load capacity,reliable work,qualified high cost of production low,green.

 

Application:

The device apply to mobile phone case and other plastic the surface of metal, non-conductive film and the electromagnetic shielding film deposition.Mainly applied to computer shell, mobile phone shell, household appliances, etc., can be plated metal film, alloy film, composite film, transparent (translucent), non-conductive, electromagnetic shielding film.

 

 

 Machine Technical Parameter: 

	Parameters	Model No.	Quantity
The structure of the vacuum chamber	Vertical front door , Double or cooling tank cooling
dimension of vacuum chamber	900×1000		1
pumping speed	1×105Pa~3×10-3Pa≤15min
limit vacuum	≤8×10-4Pa
system form a complete set	Maintaining the pump	2X-15	1
	Mechanical pump	2X-70	1
	Diffusion pump	KT-500	1
	roots-type pump	ZJP-300
workpiece system	Rotation of the planet forms(8 roating shaft, since the amount)		8
heating methods	Edge installation of stainless steel heating tube		4
ion bombardment	20KW inverter bias	PLS-20KW	1
Arc target	40-200A adjustable	TIG-250	3
magnetron target amount	one plane target or Cylindrical target		2
Magnetron power	30KW IF power	MF-30KW	1
working methods	PLC semi-auto control or PC+PLC auto control
working gas	Ar N2 O2
total power	40KW
compress air	0.4~0.8MPa
water-cooling system	hydraulic pressure/water temperature:≤25°C/≥0.25MPa(user provide for himself)

 

Vacuum Pump System:

High Qulity Roots Pump 

High efficient pumping.

 We Got Honorable Certificate

 

Packing/Loding/Shipping

 

 

 

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